Soft magnetic film and sputtering target for forming soft magnetic film

WO2016157922 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016157922
Aktenzeichen: EP16771808
Anmeldetag: 7. Januar 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/738C23C14/34G11B5/851H01F10/16H01F41/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

1.209 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von