Mask blank, phase shift mask, method for producing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2016158649 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016158649
Aktenzeichen: EP16772530
Anmeldetag: 24. März 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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