Dry film, cured product, semiconductor device, and method for forming resist pattern

WO2016159133 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016159133
Aktenzeichen: EP16773014
Anmeldetag: 30. März 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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