Composition for forming pattern, and pattern forming method

WO2016159329 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016159329
Aktenzeichen: EP16773209
Anmeldetag: 31. März 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C08F297/02C08L53/00C08J5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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