Double-Deprotected Chemically Amplified Photoresists

WO2016161067 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: The Research Foundation For The State University Of New York, Central Glass Co Ltd 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016161067
Aktenzeichen: EP16774165
Anmeldetag: 31. März 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C07C69/025C08F20/18C08F12/08G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: The Research Foundation For The State University Of New York
Central Glass Co Ltd
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Research Foundation for the State University of New York

The Research Foundation for The State University of New York verwaltet die Forschungsergebnisse und Patente der State University of New York (SUNY). Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und organische Chemie, ergänzt um Mess- und Prüftechnik sowie Pharma und Biotechnologie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2024.

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🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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