Trench and hole patterning with euv resists using dual frequency capacitively coupled plasma (ccp)

WO2016161287 Art A1 6. Oktober 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016161287
Aktenzeichen: EP16716400
Anmeldetag: 1. April 2016
Veröffentlichung: 6. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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