Patterning devices for use within a lithographic apparatus, methods of making and using such patterning devices

WO2016162157 Art A1 13. Oktober 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016162157
Aktenzeichen: EP16708423
Anmeldetag: 8. März 2016
Veröffentlichung: 13. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/26G03F1/22G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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