Manufacturing method for polishing head, polishing head, and polishing apparatus
WO2016166928
Art A1
20. Oktober 2016
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016166928
- Aktenzeichen
- EP16779727
- Anmeldetag
- 3. März 2016
- Veröffentlichung
- 20. Oktober 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/30B24B41/06H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Vertreten von
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