Electric field emitting electron source and production method therefor

WO2016167048 Art A1 20. Oktober 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016167048
Aktenzeichen: EP16779840
Anmeldetag: 8. März 2016
Veröffentlichung: 20. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J1/304H01J1/30H01J9/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von