Substrate processing method, substrate processing system, and substrate processing device

WO2016167105 Art A1 20. Oktober 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016167105
Aktenzeichen: EP16779896
Anmeldetag: 28. März 2016
Veröffentlichung: 20. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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