Large Area Projection Micro Stereolithography
WO2016167897
Art A1
20. Oktober 2016
Anmelder: Lawrence Livermore National Security, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016167897
- Aktenzeichen
- EP16780421
- Anmeldetag
- 4. März 2016
- Veröffentlichung
- 20. Oktober 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03H1/26G03H1/02G02B5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lawrence Livermore National Security, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lawrence Livermore National Security
Lawrence Livermore National Security ist die Betreibergesellschaft des Lawrence Livermore National Laboratory, eines US-Forschungslabors für nationale Sicherheit und Energie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Fertigungstechnik, ergänzt durch Optik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2002 bis 2025.
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