Lithographic apparatus and lithographic projection method

WO2016169727 Art A1 27. Oktober 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016169727
Aktenzeichen: EP16711648
Anmeldetag: 24. März 2016
Veröffentlichung: 27. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/62G03F7/20G01B11/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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