Method for manufacturing epitaxial wafer

WO2016170721 Art A1 27. Oktober 2016

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016170721
Aktenzeichen: EP16782751
Anmeldetag: 4. März 2016
Veröffentlichung: 27. Oktober 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/06C30B25/20H01L21/20H01L21/205H01L21/304H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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