Treatment composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and cleaning method
WO2016170942
Art A1
27. Oktober 2016
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016170942
- Aktenzeichen
- EP16782964
- Anmeldetag
- 30. März 2016
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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