Charged particle beam device and sample observation method using same device

WO2016174707 Art A1 3. November 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016174707
Aktenzeichen: EP15890691
Anmeldetag: 27. April 2015
Veröffentlichung: 3. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01N23/20H01J37/295

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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