Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2016177519 Art A1 10. November 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016177519
Aktenzeichen: EP16713482
Anmeldetag: 4. April 2016
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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