Process for obtaining semiconductor nanodevices with patterned metal-oxide thin films deposited onto a substrate, and semiconductor nanodevices thereof

WO2016177694 Art A1 10. November 2016

Anmelder: Centre National de la Recherche Scientifique CNRS 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016177694
Aktenzeichen: EP16722587
Anmeldetag: 3. Mai 2016
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/06C23C18/12C23C18/14

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Anmelder

Firma: Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

Französische staatliche Forschungsorganisation mit Sitz in Paris. Betreibt Grundlagen- und angewandte Forschung in nahezu allen wissenschaftlichen Disziplinen über zahlreiche Institute und Labore.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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