Charged particle beam device provided with ion pump

WO2016178283 Art A1 10. November 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016178283
Aktenzeichen: EP15891290
Anmeldetag: 1. Mai 2015
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/248H01J37/18H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von