Chemical etching method for silicon using graphene as catalyst

WO2016178452 Art A1 10. November 2016

Anmelder: University-Industry Cooperation Group of Kyung Hee University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016178452
Aktenzeichen: EP15891316
Anmeldetag: 2. Juni 2015
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/10C23F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: University-Industry Cooperation Group of Kyung Hee University
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 University-Industry Cooperation Group of Kyung Hee University

Die University-Industry Cooperation Group of Kyung Hee University ist die Patentverwertungseinrichtung der südkoreanischen Kyung Hee University in Seoul. Das Portfolio verteilt sich auf Medizintechnik und Gesundheit, Nachrichtentechnik und Telekommunikation sowie Halbleitertechnik und Landwirtschaft. Anmeldungen laufen seit 2004 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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