Enhanced patterning of integrated circuit layer by tilted ion implantation

WO2016179025 Art A1 10. November 2016

Anmelder: The Regents of the University of California 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016179025
Aktenzeichen: EP16789852
Anmeldetag: 29. April 2016
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/265H01L21/027H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Regents of the University of California
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of California

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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