Substrate pre-scanning for high throughput microscopy

WO2016179286 Art A1 10. November 2016

Anmelder: Massachusetts Institute Of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016179286
Aktenzeichen: EP16723215
Anmeldetag: 4. Mai 2016
Veröffentlichung: 10. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B01L3/00G02B21/24G02B21/34G02B21/36G06K9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Massachusetts Institute Of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

636 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von