Polishing agent for synthetic quartz glass substrate, and method for polishing synthetic quartz glass substrate

WO2016181600 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016181600
Aktenzeichen: EP16792335
Anmeldetag: 31. März 2016
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14B24B37/00C09G1/02G11B5/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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