Cleaning method and plasma treatment method

WO2016181893 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016181893
Aktenzeichen: EP16792618
Anmeldetag: 2. Mai 2016
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065B08B7/00G11B5/84H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von