Method for inspecting substrate, substrate treatment system, and computer storage medium

WO2016181930 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016181930
Aktenzeichen: EP16792655
Anmeldetag: 9. Mai 2016
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von