Electroconductive film, transistor, and method for producing thin film

WO2016181964 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016181964
Aktenzeichen: EP16792689
Anmeldetag: 10. Mai 2016
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01B13/00H01B5/14H01L21/208H01L21/28H01L21/288H01L21/336H01L29/417H01L29/786H01L51/05H01L51/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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