Substrate dipping device

WO2016182107 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Korea Research Institute Of Standards And Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016182107
Aktenzeichen: EP15891923
Anmeldetag: 19. Mai 2015
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B05C3/02B05C13/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Research Institute Of Standards And Science
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von