Substrate treatment device arranged inside process chamber and method for operating same

WO2016182299 Art A1 17. November 2016

Anmelder: Jusung Engineering Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016182299
Aktenzeichen: EP16792945
Anmeldetag: 10. Mai 2016
Veröffentlichung: 17. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H01L21/67H01L21/02H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jusung Engineering Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von