Verfahren zum Herstellen eines Objektivs für eine Lithographieanlage sowie Messvorrichtung

WO2016184593 Art A1 24. November 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016184593
Aktenzeichen: EP16714368
Anmeldetag: 31. März 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/00G01M11/02G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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