Method for manufacturing silicon epitaxial wafer and method for evaluating same

WO2016185644 Art A1 24. November 2016

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016185644
Aktenzeichen: EP16796041
Anmeldetag: 7. März 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66C30B29/06H01L21/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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