Processing material for suppressing substrate pattern collapse and method for processing substrate

WO2016185888 Art A1 24. November 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016185888
Aktenzeichen: EP16796282
Anmeldetag: 27. April 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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