Mask blank, transfer mask, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

WO2016185941 Art A1 24. November 2016

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016185941
Aktenzeichen: EP16796335
Anmeldetag: 10. Mai 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26G03F1/48

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von