Laser annealing method, laser annealing device, and method for manufacturing thin-film transistor
WO2016186043
Art A1
24. November 2016
Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016186043
- Aktenzeichen
- EP16796436
- Anmeldetag
- 13. Mai 2016
- Veröffentlichung
- 24. November 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/20H01L21/268H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- V Technology Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
V Technology
V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.
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