Selective area atomic layer deposition apparatus

WO2016186299 Art A1 24. November 2016

Anmelder: Korea University Research and Business Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016186299
Aktenzeichen: EP16796626
Anmeldetag: 26. Februar 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea University Research and Business Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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