Metal thin film substrate and method of manufacturing same

WO2016186402 Art A1 24. November 2016

Anmelder: Korea Institute of Machinery & Materials 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016186402
Aktenzeichen: EP16796729
Anmeldetag: 13. Mai 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B32B7/02B32B15/08B32B37/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Machinery & Materials
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Machinery & Materials

Das Korea Institute of Machinery & Materials ist ein staatliches südkoreanisches Forschungsinstitut für Maschinenbau und Werkstofftechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Verfahrenstechnik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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