System and method for wafer-scale fabrication of free standing mechanical and photonic structures by ion beam etching

WO2016186988 Art A1 24. November 2016

Anmelder: President and Fellows of Harvard College 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016186988
Aktenzeichen: EP16796993
Anmeldetag: 13. Mai 2016
Veröffentlichung: 24. November 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C03B29/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: President and Fellows of Harvard College
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Harvard University

US-amerikanische Elite-Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts. Harvard betreibt Forschung und Patentierung in zahlreichen Feldern, insbesondere Biotechnologie, Medizin, Life Sciences und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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