Cavity Formation in Semiconductor Devices
WO2016187022
Art A1
24. November 2016
Anmelder: Skyworks Solutions, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016187022
- Aktenzeichen
- EP16797017
- Anmeldetag
- 13. Mai 2016
- Veröffentlichung
- 24. November 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/66H01L29/78H01L21/768H04B1/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Skyworks Solutions, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Skyworks Solutions, Inc.
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien, spezialisiert auf HF-Chips und Analog-Halbleiter für Mobilfunk- und Kommunikationstechnik. Zahlreiche Patente im Bereich Hochfrequenztechnik und drahtlose Kommunikation.
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