Plasma processing device and plasma processing method using same

WO2016190036 Art A1 1. Dezember 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016190036
Aktenzeichen: EP16799744
Anmeldetag: 27. April 2016
Veröffentlichung: 1. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/336H01L21/8247H01L27/115H01L29/788H01L29/792H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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