Lithographic apparatus, device manufacturing method and method of clamping an object

WO2016192785 Art A1 8. Dezember 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016192785
Aktenzeichen: EP15725072
Anmeldetag: 3. Juni 2015
Veröffentlichung: 8. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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