Epitaxial growth device, method of manufacturing epitaxial wafer, and lift pin for epitaxial growth device

WO2016194291 Art A1 8. Dezember 2016

Anmelder: Sumco Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016194291
Aktenzeichen: EP16802737
Anmeldetag: 25. April 2016
Veröffentlichung: 8. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/24C23C16/44C30B25/12C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumco Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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