Sputtering target and sputtering deposition method using same

WO2016194696 Art A1 8. Dezember 2016

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016194696
Aktenzeichen: EP16803131
Anmeldetag: 24. Mai 2016
Veröffentlichung: 8. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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