Systems and methods for reducing scar formation about a neural implant

WO2016196903 Art A1 8. Dezember 2016

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016196903
Aktenzeichen: EP16729458
Anmeldetag: 3. Juni 2016
Veröffentlichung: 8. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: A61N1/05

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit

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