Charged particle beam device and charged particle beam device control method

WO2016199271 Art A1 15. Dezember 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016199271
Aktenzeichen: EP15894956
Anmeldetag: 11. Juni 2015
Veröffentlichung: 15. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/20H01J37/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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