In-situ plasma cleaning of process chamber components

WO2016200668 Art A1 15. Dezember 2016

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016200668
Aktenzeichen: EP16808052
Anmeldetag: 2. Juni 2016
Veröffentlichung: 15. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C16/44H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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