Film formation mask, and method for producing film formation mask

WO2016204019 Art A1 22. Dezember 2016

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016204019
Aktenzeichen: EP16811494
Anmeldetag: 7. Juni 2016
Veröffentlichung: 22. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: V Technology Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von