Hybrid substrate processing system for dry and wet process and substrate processing method thereof

WO2016204424 Art A1 22. Dezember 2016

Anmelder: ACN Co., Ltd., ACM Research (Shanghai) Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016204424
Aktenzeichen: EP16811837
Anmeldetag: 27. Mai 2016
Veröffentlichung: 22. Dezember 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/677H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ACN Co., Ltd.
ACM Research (Shanghai) Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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