Polishing method, composition for removing impurity, substrate, and method for manufacturing same
WO2016208445
Art A1
29. Dezember 2016
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016208445
- Aktenzeichen
- EP16814216
- Anmeldetag
- 13. Juni 2016
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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