Process-induced asymmetry detection, quantification, and control using patterned wafer geometry measurements
WO2016209625
Art A1
29. Dezember 2016
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016209625
- Aktenzeichen
- EP16815036
- Anmeldetag
- 8. Juni 2016
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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