Measurement systems, lithographic apparatus, device manufacturing method and a method of measuring

WO2017005408 Art A1 12. Januar 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017005408
Aktenzeichen: EP16726545
Anmeldetag: 31. Mai 2016
Veröffentlichung: 12. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01D5/14G01P3/49G01B7/02G01N27/90

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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