Lithographic apparatus

WO2017005463 Art A1 12. Januar 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017005463
Aktenzeichen: EP16729885
Anmeldetag: 14. Juni 2016
Veröffentlichung: 12. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B23K26/14H01S3/097H01S3/134H01S3/223H01S3/03H01S3/036H01S3/04H01S3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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