Process kit having tall deposition ring and deposition ring clamp
WO2017007729
Art A1
12. Januar 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017007729
- Aktenzeichen
- EP16821859
- Anmeldetag
- 1. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 12. Januar 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/50C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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